Dostawa elektronolitografu (systemu do generacji wzorów wiązką elektronów) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie. - pl-warszawa: urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne
ROZWIŃ
Opis przedmiotu przetargu: przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) elektronolitografu to jest kompletnego systemu do generacj iwzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do 1. wytwarzania fotomasek chromowych; 2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących; 3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu; 4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących. system do elektronolitografii obejmuje w szczególności 1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją; 2) stację załadowczą; 3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej; 4) automatyczny system próżniowy; 5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa. przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia. ii.1.6)
| TI | Tytuł | PL-Warszawa: Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne |
|---|---|---|
| ND | Nr dokumentu | 322359-2011 |
| PD | Data publikacji | 14/10/2011 |
| OJ | Dz.U. S | 198 |
| TW | Miejscowość | WARSZAWA |
| AU | Nazwa instytucji | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych |
| OL | Język oryginału | PL |
| HD | Nagłówek | Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Ogłoszenie o zamówieniu - Procedura otwarta |
| CY | Kraj | PL |
| AA | Rodzaj instytucji | 8 - Inne |
| DS | Dokument wysłany | 10/10/2011 |
| DT | Termin | 24/11/2011 |
| NC | Zamówienie | 2 - Zamówienie publiczne na dostawy |
| PR | Procedura | 1 - Procedura otwarta |
| TD | Dokument | 3 - Ogłoszenie o zamówieniu |
| RP | Legislacja | 4 - Unia Europejska |
| TY | Rodzaj oferty | 1 - Oferta całościowa |
| AC | Kryteria udzielenia zamówienia | 2 - Oferta najbardziej korzystna ekonomicznie |
| PC | Kod CPV | 30211000 - Komputery wysokowydajne 31700000 - Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne 42900000 - Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia 48321100 - System projektowania wspomaganego komputerowo (CAD) 48323000 - Pakiety oprogramowania do produkcji wspomaganej komputerowo (CAM) |
| OC | Pierwotny kod CPV | 30211000 - Komputery wysokowydajne 31700000 - Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne 42900000 - Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia 48321100 - System projektowania wspomaganego komputerowo (CAD) 48323000 - Pakiety oprogramowania do produkcji wspomaganej komputerowo (CAM) |
| RC | Kod NUTS | PL127 |
| IA | Adres internetowy (URL) | http://www.itme.edu.pl |
| DI | Podstawa prawna | Dyrektywa klasyczna (2004/18/WE) |
14/10/2011 S198 Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Ogłoszenie o zamówieniu - Procedura otwarta
PL-Warszawa: Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne
2011/S 198-322359
Ogłoszenie o zamówieniu
Dostawy
Sekcja I: Instytucja zamawiająca
I.1)Nazwa, adresy i punkty kontaktowe
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Wólczyńska 133
Punkt kontaktowy: Budynek 2 pokój 162, Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa, Polska
Osoba do kontaktów: Sławomir Strelau
01-919 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 228353536
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl
Faks: +48 228349220
Adresy internetowe:
Ogólny adres instytucji zamawiającej: http://www.itme.edu.pl
Więcej informacji można uzyskać pod adresem: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
Specyfikacje i dokumenty dodatkowe (w tym dokumenty dotyczące dialogu konkurencyjnego oraz dynamicznego systemu zakupów) można uzyskać pod adresem: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
Oferty lub wnioski o dopuszczenie do udziału w postępowaniu należy przesyłać na adres: Powyższy(-e) punkt(-y) kontaktowy(-e)
I.2)Rodzaj instytucji zamawiającej
Inna: Instytut badawczy
I.3)Główny przedmiot lub przedmioty działalności
Inny: nauka
I.4)Udzielenie zamówienia w imieniu innych instytucji zamawiających
Instytucja zamawiająca dokonuje zakupu w imieniu innych instytucji zamawiających: nie
Sekcja II: Przedmiot zamówienia
II.1)Opis
II.1.1)Nazwa nadana zamówieniu przez instytucję zamawiającą:
Dostawa elektronolitografu (systemu do generacji wzorów wiązką elektronów) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie.
II.1.2)Rodzaj zamówienia oraz lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług
Dostawy
Kupno
Główne miejsce lub lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług: Siedziba zamawiającego - budynek 5, Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa.Polska.
Kupno
Główne miejsce lub lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług: Siedziba zamawiającego - budynek 5, Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa.Polska.
Kod NUTS PL127
II.1.3)Informacje na temat zamówienia publicznego, umowy ramowej lub dynamicznego systemu zakupów (DSZ)
Ogłoszenie dotyczy zamówienia publicznego
II.1.4)Informacje na temat umowy ramowej
II.1.5)Krótki opis zamówienia lub zakupu
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacj iwzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:
1. wytwarzania fotomasek chromowych;
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;
2) stację załadowczą;
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;
4) automatyczny system próżniowy;
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.
1. wytwarzania fotomasek chromowych;
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;
2) stację załadowczą;
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;
4) automatyczny system próżniowy;
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.
II.1.6)Wspólny Słownik Zamówień (CPV)
31700000, 42900000, 30211000, 48323000, 48321100
II.1.7)Informacje na temat Porozumienia w sprawie zamówień rządowych (GPA)
Zamówienie jest objęte Porozumieniem w sprawie zamówień rządowych (GPA): nie
II.1.8)Części
To zamówienie podzielone jest na części: nie
II.1.9)Informacje o ofertach wariantowych
Dopuszcza się składanie ofert wariantowych: nie
II.2)Wielkość lub zakres zamówienia
II.2.1)Całkowita wielkość lub zakres:
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) fabrycznie nowego elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacji wzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:
1. wytwarzania fotomasek chromowych
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znaczników centrujących
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją,
2) stację załadowczą,
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej,
4) automatyczny system próżniowy,
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych u producenta przed dostawą systemu co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,
(2) sprawdzenie spełnienia przez Zamawiającego warunków instalacji urządzenia przed jego dostawą, co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 8. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii
(3) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,
(4) przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania.
System do elektronolitografii musi spełniać wymagania opisane w SIWZ a w szczególności określone w załączniku nr 1 do niniejszej specyfikacji pt. "Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia", który to załącznik stanowi integralną część SIWZ.
Szacunkowa wartość bez VAT: 30 000 000,00 PLN
1. wytwarzania fotomasek chromowych
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znaczników centrujących
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym, oprogramowaniem i dokumentacją,
2) stację załadowczą,
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej,
4) automatyczny system próżniowy,
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również:
(1) wykonanie testów odbiorczych u producenta przed dostawą systemu co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,
(2) sprawdzenie spełnienia przez Zamawiającego warunków instalacji urządzenia przed jego dostawą, co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 8. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii
(3) wykonanie testów odbiorczych systemu uruchomionego u Zamawiającego co najmniej w zakresie podanym w Załączniku 6. Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii,
(4) przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi systemu i oprogramowania.
System do elektronolitografii musi spełniać wymagania opisane w SIWZ a w szczególności określone w załączniku nr 1 do niniejszej specyfikacji pt. "Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia", który to załącznik stanowi integralną część SIWZ.
Szacunkowa wartość bez VAT: 30 000 000,00 PLN
II.2.2)Informacje o opcjach
Opcje: nie
II.2.3)Informacje o wznowieniach
Jest to zamówienie podlegające wznowieniu: nie
II.3)Czas trwania zamówienia lub termin realizacji
Okres w miesiącach: 16 (od udzielenia zamówienia)
Sekcja III: Informacje o charakterze prawnym, ekonomicznym, finansowym i technicznym
III.1)Warunki dotyczące zamówienia
III.1.1)Wymagane wadia i gwarancje:
W niniejszym postępowaniu Zamawiający wymaga:
1. wniesienia wadium w wysokości 300 000 PLN;
2. zabezpieczenia należytego wykonania umowy: 5 % ceny podanej w ofercie;
3. zabezpieczenia zaliczki (o ile będzie wymagana).
1. wniesienia wadium w wysokości 300 000 PLN;
2. zabezpieczenia należytego wykonania umowy: 5 % ceny podanej w ofercie;
3. zabezpieczenia zaliczki (o ile będzie wymagana).
III.1.2)Główne warunki finansowe i uzgodnienia płatnicze i/lub odniesienie do odpowiednich przepisów je regulujących:
III.1.3)Forma prawna, jaką musi przyjąć grupa wykonawców, której zostanie udzielone zamówienie:
III.1.4)Inne szczególne warunki
Wykonanie zamówienia podlega szczególnym warunkom: tak
Opis szczególnych warunków: Określono w punkcie III.2.1.
Opis szczególnych warunków: Określono w punkcie III.2.1.
III.2)Warunki udziału
III.2.1)Sytuacja podmiotowa wykonawców, w tym wymogi związane z wpisem do rejestru zawodowego lub handlowego
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów: O udzielenie zamówienia publicznego mogą ubiegać się Wykonawcy, którzy spełniają warunki udziału w postępowaniu to znaczy:
1. spełniają warunki określone w art. 22 i nie podlegają wykluczeniu z postępowania na podstawie art. 24 ustawy Pzp
2. spełniają wymagania określone w niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia
3. wypełnią i złożą formularz oferty stanowiący załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji wraz z wszystkimi wymaganymi dokumentami i zaświadczeniami.
Dokumentami składającymi się na ofertę są:
1. Formularz oferty (załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia) wypełniony i podpisany zgodnie z wymaganiami pkt IX.3 niniejszej specyfikacji.
2. Aktualny odpis z właściwego rejestru, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru w celu wykazania braku podstaw do wykluczenia w oparciu o art. 24 ust. 1 punkt 2 ustawy Pzp wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu do składania ofert, a w stosunku do osób fizycznych oświadczenie w zakresie art 24 ust 1 pkt 2 ustawy Pzp
3. Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem podatków, lub zaświadczenie, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
4. Aktualne zaświadczenie właściwego oddziału Zakładu Ubezpieczeń Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia Społecznego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem składek na ubezpieczenie zdrowotne i społeczne, lub potwierdzenia, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
5. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 4-8 ustawy Pzp., wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert. W przypadku wykonawcy mającego siedzibę na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, jeżeli osoby, o których mowa w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp mają miejsce zamieszkania poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, Wykonawca składa w odniesieniu do nich zaświadczenie właściwego organu sądowego albo administracyjnego miejsca zamieszkania dotyczące niekaralności tych osób w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert, a w przypadku, gdy w miejscu zamieszkania tych osób nie wydaje się takich zaświadczeń – dokument zawierający oświadczenie złożone przed notariuszem, właściwym organem sądowym, administracyjnym albo organem zawodowym lub gospodarczym miejsca zamieszkania tych osób.
6. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 9 ustawy Pzp, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia publicznego albo składania ofert.
7. Oświadczenie o braku podstaw do wykluczenia, o treści zgodnej z załącznikiem 3a do SIWZ.
8. Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu, o treści zgodnej z załącznikiem 3b do SIWZ.
9. Wykaz wykonanych dostaw w zakresie niezbędnym do wykazania spełnienia warunku wiedzy i doświadczenia w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, z podaniem ich przedmiotu, wartości, dat wykonania i odbiorców oraz załączeniem dokumentów potwierdzających, że dostawy te zostały wykonane należycie. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli Wykonawca, w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, wykonał należycie minimum trzy dostawy wraz z instalacją i uruchomieniem, z których co najmniej jedna miała wartość nie mniejszą niż 20 000 000 PLN netto, a każda obejmowała system do generacji wzorów wiązką elektronów posiadający co najmniej następujące cechy:
a) wiązka elektronów o zmiennym przekroju, maksymalny przekrój wiązki w płaszczyźnie naświetlanego podłoża co najmniej 2x2 μm2, rozmiary przekroju wiązki regulowane w całym zakresie (od zera do wymiaru maksymalnego) z krokiem równym lub mniejszym niż 5 nm,
b) naświetlanie wzoru w trybie ‘vector-scan’,
c) możliwość naświetlania wzoru przy ciągłym ruchu stołu (‘write-on-the-fly’),
d) możliwość naświetlania wzoru w wielu przejściach ze zmiennym podziałem pól naświetlania (w trybie ‘multi-pass’),
e) ciągła korekcja ogniskowania i odchylania wiązki w oparciu o optyczny pomiar odległości do powierzchni naświetlanej (korekta odchyłek od płaskości podłoża),
f) zakres przemieszczeń stołu roboczego co najmniej 200 x 200 mm2, interferometryczny system kontroli pozycji stołu o rozdzielczości co najmniej 1 nm,
g) stabilizacja temperatury w komorze roboczej co najmniej ± 0.05 K,
h) parametry generacji wzoru na maskach chromowych: powierzchnia naświetlania co najmniej 150 x 150 mm2, dokładność położenia elementów wzoru co najmniej 30 nm, dokładność nakładania się wzorów co najmniej 25 nm (wzór na masce w stosunku do średniej), powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 25 nm,
i) parametry bezpośredniej generacji wzoru na podłożach ze znacznikami centrującymi: automatyczny tryb określania pozycji znaczników i wyznaczania korekt układów sterowania wiązką elektronów, powierzchnia naświetlania o średnicy co najmniej 125 mm, rozdzielczość (minimalny wymiar naświetlanego elementu) co najmniej 50 nm, dokładność centrowania wzorów do istniejącej topologii (wzajemnego nakładania się wzorów) co najmniej 30 nm, powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 10 nm.
W przypadku, gdy wartość podanego w wykazie zamówienia została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.
Wzór formularza wykazu stanowi załącznik nr 5 do SIWZ. Zamawiający zastrzega sobie prawo do sprawdzenia informacji podanych przez Wykonawcę w wykazie, nie wyłączając sprawdzenia u wskazanego odbiorcy właściwości urządzenia, w tym wykonania wzoru testowego (pole 100 x 100 mm2, wymiar minimalny 100 nm, dane w formacie DXF dostarczone przez Zamawiającego), łącznie z procedurami przygotowania danych zawierającymi konwersję danych i korektę zjawiska sąsiedztwa (proximity effect) Zamawiający oczekiwać będzie w miarę potrzeb, współdziałania Wykonawcy na rzecz dokonania takiego sprawdzenia. Dojazd i pobyt przedstawicieli Zamawiającego do miejsca przeprowadzenia wizji lokalnej/prezentacji odbędzie się na koszt Zamawiającego.
Wykonawca może polegać na wiedzy i doświadczeniu innych podmiotów, niezależnie od charakteru prawnego łączących go z nimi stosunków, pod warunkiem, iż taki podmiot będzie brał udział w realizacji przedmiotowego zamówienia. W takiej sytuacji Wykonawca jest zobowiązany udowodnić Zamawiającemu, iż będzie dysponował zasobami niezbędnymi do realizacji zamówienia, w szczególności przedstawiając w tym celu pisemne zobowiązanie tych podmiotów do oddania mu do dyspozycji niezbędnych zasobów na okres korzystania z nich przy wykonaniu zamówienia. Jeżeli Wykonawca, wykazując spełnianie warunków opisanych przez Zamawiającego polega na zasobach innych podmiotów na zasadach określonych w art. 26. ust. 2b ustawy Pzp, Zamawiający żąda od Wykonawcy przedstawienia w odniesieniu do tych podmiotów dokumentów wymienionych w punkcie XIII w podpunktach 2-7.
10. Opłacona polisa, a w przypadku jej braku inny dokument potwierdzający, że Wykonawca jest ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z przedmiotem zamówienia. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli wartość polisy wynosić będzie minimum 2 000 000 PLN. W przypadku, gdy wartość polisy została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.
11. Broszura (broszury) firmowe producenta zawierające informacje na temat podstawowych parametrów i funkcji oraz zdjęcia oferowanego systemu.
12. Szczegółowy opis testów odbiorczych wykonywanych u producenta przed dostawą urządzenia (Factory Acceptance Test) oraz testów odbiorczych wykonywanych u Zamawiającego po zainstalowaniu urządzenia (Customer Acceptance Test) zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 6 pt. „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii.”
13. Szczegółowy opis (w szczególności techniczny) oferowanego systemu do elektronolitografii - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 7 „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu oferowanego systemu do elektronolitografii”.
14. Szczegółowe wymagania dotyczące warunków instalacji - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 8 „Wymagania dotyczące opisu szczegółowych warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii”.
15. Wypełniona zgodnie z wymaganiami Zamawiającego we wszystkich/odpowiednich polach „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia” (tabela nr 1 i tabela nr 2 w załączniku nr 1 do SIWZ).
16. Potwierdzenie wniesienia wadium.
1. spełniają warunki określone w art. 22 i nie podlegają wykluczeniu z postępowania na podstawie art. 24 ustawy Pzp
2. spełniają wymagania określone w niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia
3. wypełnią i złożą formularz oferty stanowiący załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji wraz z wszystkimi wymaganymi dokumentami i zaświadczeniami.
Dokumentami składającymi się na ofertę są:
1. Formularz oferty (załącznik nr 2 do niniejszej specyfikacji istotnych warunków zamówienia) wypełniony i podpisany zgodnie z wymaganiami pkt IX.3 niniejszej specyfikacji.
2. Aktualny odpis z właściwego rejestru, jeżeli odrębne przepisy wymagają wpisu do rejestru w celu wykazania braku podstaw do wykluczenia w oparciu o art. 24 ust. 1 punkt 2 ustawy Pzp wystawiony nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu do składania ofert, a w stosunku do osób fizycznych oświadczenie w zakresie art 24 ust 1 pkt 2 ustawy Pzp
3. Aktualne zaświadczenie właściwego naczelnika urzędu skarbowego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem podatków, lub zaświadczenie, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
4. Aktualne zaświadczenie właściwego oddziału Zakładu Ubezpieczeń Społecznych lub Kasy Rolniczego Ubezpieczenia Społecznego potwierdzające, że Wykonawca nie zalega z opłacaniem składek na ubezpieczenie zdrowotne i społeczne, lub potwierdzenia, że uzyskał przewidziane prawem zwolnienie, odroczenie lub rozłożenie na raty zaległych płatności lub wstrzymanie w całości wykonania decyzji właściwego organu – wystawione nie wcześniej niż 3 miesiące przed upływem terminu składania ofert.
5. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 4-8 ustawy Pzp., wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert. W przypadku wykonawcy mającego siedzibę na terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, jeżeli osoby, o których mowa w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp mają miejsce zamieszkania poza terytorium Rzeczypospolitej Polskiej, Wykonawca składa w odniesieniu do nich zaświadczenie właściwego organu sądowego albo administracyjnego miejsca zamieszkania dotyczące niekaralności tych osób w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 5-8 ustawy Pzp, wystawione nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania ofert, a w przypadku, gdy w miejscu zamieszkania tych osób nie wydaje się takich zaświadczeń – dokument zawierający oświadczenie złożone przed notariuszem, właściwym organem sądowym, administracyjnym albo organem zawodowym lub gospodarczym miejsca zamieszkania tych osób.
6. Aktualna informacja z Krajowego Rejestru Karnego w zakresie określonym w art. 24 ust. 1 pkt 9 ustawy Pzp, wystawiona nie wcześniej niż 6 miesięcy przed upływem terminu składania wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu o udzielenie zamówienia publicznego albo składania ofert.
7. Oświadczenie o braku podstaw do wykluczenia, o treści zgodnej z załącznikiem 3a do SIWZ.
8. Oświadczenie o spełnianiu warunków udziału w postępowaniu, o treści zgodnej z załącznikiem 3b do SIWZ.
9. Wykaz wykonanych dostaw w zakresie niezbędnym do wykazania spełnienia warunku wiedzy i doświadczenia w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, z podaniem ich przedmiotu, wartości, dat wykonania i odbiorców oraz załączeniem dokumentów potwierdzających, że dostawy te zostały wykonane należycie. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli Wykonawca, w okresie ostatnich trzech lat przed upływem terminu składania ofert, a jeżeli okres prowadzenia działalności jest krótszy – w tym okresie, wykonał należycie minimum trzy dostawy wraz z instalacją i uruchomieniem, z których co najmniej jedna miała wartość nie mniejszą niż 20 000 000 PLN netto, a każda obejmowała system do generacji wzorów wiązką elektronów posiadający co najmniej następujące cechy:
a) wiązka elektronów o zmiennym przekroju, maksymalny przekrój wiązki w płaszczyźnie naświetlanego podłoża co najmniej 2x2 μm2, rozmiary przekroju wiązki regulowane w całym zakresie (od zera do wymiaru maksymalnego) z krokiem równym lub mniejszym niż 5 nm,
b) naświetlanie wzoru w trybie ‘vector-scan’,
c) możliwość naświetlania wzoru przy ciągłym ruchu stołu (‘write-on-the-fly’),
d) możliwość naświetlania wzoru w wielu przejściach ze zmiennym podziałem pól naświetlania (w trybie ‘multi-pass’),
e) ciągła korekcja ogniskowania i odchylania wiązki w oparciu o optyczny pomiar odległości do powierzchni naświetlanej (korekta odchyłek od płaskości podłoża),
f) zakres przemieszczeń stołu roboczego co najmniej 200 x 200 mm2, interferometryczny system kontroli pozycji stołu o rozdzielczości co najmniej 1 nm,
g) stabilizacja temperatury w komorze roboczej co najmniej ± 0.05 K,
h) parametry generacji wzoru na maskach chromowych: powierzchnia naświetlania co najmniej 150 x 150 mm2, dokładność położenia elementów wzoru co najmniej 30 nm, dokładność nakładania się wzorów co najmniej 25 nm (wzór na masce w stosunku do średniej), powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 25 nm,
i) parametry bezpośredniej generacji wzoru na podłożach ze znacznikami centrującymi: automatyczny tryb określania pozycji znaczników i wyznaczania korekt układów sterowania wiązką elektronów, powierzchnia naświetlania o średnicy co najmniej 125 mm, rozdzielczość (minimalny wymiar naświetlanego elementu) co najmniej 50 nm, dokładność centrowania wzorów do istniejącej topologii (wzajemnego nakładania się wzorów) co najmniej 30 nm, powtarzalność wymiaru krytycznego co najmniej 10 nm.
W przypadku, gdy wartość podanego w wykazie zamówienia została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.
Wzór formularza wykazu stanowi załącznik nr 5 do SIWZ. Zamawiający zastrzega sobie prawo do sprawdzenia informacji podanych przez Wykonawcę w wykazie, nie wyłączając sprawdzenia u wskazanego odbiorcy właściwości urządzenia, w tym wykonania wzoru testowego (pole 100 x 100 mm2, wymiar minimalny 100 nm, dane w formacie DXF dostarczone przez Zamawiającego), łącznie z procedurami przygotowania danych zawierającymi konwersję danych i korektę zjawiska sąsiedztwa (proximity effect) Zamawiający oczekiwać będzie w miarę potrzeb, współdziałania Wykonawcy na rzecz dokonania takiego sprawdzenia. Dojazd i pobyt przedstawicieli Zamawiającego do miejsca przeprowadzenia wizji lokalnej/prezentacji odbędzie się na koszt Zamawiającego.
Wykonawca może polegać na wiedzy i doświadczeniu innych podmiotów, niezależnie od charakteru prawnego łączących go z nimi stosunków, pod warunkiem, iż taki podmiot będzie brał udział w realizacji przedmiotowego zamówienia. W takiej sytuacji Wykonawca jest zobowiązany udowodnić Zamawiającemu, iż będzie dysponował zasobami niezbędnymi do realizacji zamówienia, w szczególności przedstawiając w tym celu pisemne zobowiązanie tych podmiotów do oddania mu do dyspozycji niezbędnych zasobów na okres korzystania z nich przy wykonaniu zamówienia. Jeżeli Wykonawca, wykazując spełnianie warunków opisanych przez Zamawiającego polega na zasobach innych podmiotów na zasadach określonych w art. 26. ust. 2b ustawy Pzp, Zamawiający żąda od Wykonawcy przedstawienia w odniesieniu do tych podmiotów dokumentów wymienionych w punkcie XIII w podpunktach 2-7.
10. Opłacona polisa, a w przypadku jej braku inny dokument potwierdzający, że Wykonawca jest ubezpieczony od odpowiedzialności cywilnej w zakresie prowadzonej działalności związanej z przedmiotem zamówienia. Zamawiający uzna warunek za spełniony, jeżeli wartość polisy wynosić będzie minimum 2 000 000 PLN. W przypadku, gdy wartość polisy została określona w walucie innej, niż złoty polski, zostanie ona przeliczona na PLN wg średniego kursu NBP na dzień publikacji ogłoszenia o zamówieniu w Dzienniku Urzędowym Unii Europejskiej. W przypadku, gdy w dniu publikacji ogłoszenia NBP nie opublikował średnich kursów walut, zostanie przyjęty pierwszy opublikowany po tej dacie średni kurs NBP.
11. Broszura (broszury) firmowe producenta zawierające informacje na temat podstawowych parametrów i funkcji oraz zdjęcia oferowanego systemu.
12. Szczegółowy opis testów odbiorczych wykonywanych u producenta przed dostawą urządzenia (Factory Acceptance Test) oraz testów odbiorczych wykonywanych u Zamawiającego po zainstalowaniu urządzenia (Customer Acceptance Test) zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 6 pt. „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu testów odbiorczych oferowanego systemu do elektronolitografii.”
13. Szczegółowy opis (w szczególności techniczny) oferowanego systemu do elektronolitografii - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 7 „Wymagania dotyczące szczegółowego opisu oferowanego systemu do elektronolitografii”.
14. Szczegółowe wymagania dotyczące warunków instalacji - zgodnie z wymaganiami określonymi w Załączniku 8 „Wymagania dotyczące opisu szczegółowych warunków technicznych instalacji oferowanego systemu do elektronolitografii”.
15. Wypełniona zgodnie z wymaganiami Zamawiającego we wszystkich/odpowiednich polach „Szczegółowa charakterystyka przedmiotu zamówienia” (tabela nr 1 i tabela nr 2 w załączniku nr 1 do SIWZ).
16. Potwierdzenie wniesienia wadium.
III.2.2)Zdolność ekonomiczna i finansowa
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów: Określono w punkcie III.2.1.
Minimalny poziom ewentualnie wymaganych standardów: Określono w punkcie III.2.1.
Minimalny poziom ewentualnie wymaganych standardów: Określono w punkcie III.2.1.
III.2.3)Kwalifikacje techniczne
Informacje i formalności konieczne do dokonania oceny spełniania wymogów:
Określono w punkcie III.2.1.
Minimalny poziom ewentualnie wymaganych standardów:
Określono w punkcie III.2.1.
Określono w punkcie III.2.1.
Minimalny poziom ewentualnie wymaganych standardów:
Określono w punkcie III.2.1.
III.2.4)Informacje o zamówieniach zastrzeżonych
III.3)Specyficzne warunki dotyczące zamówień na usługi
III.3.1)Informacje dotyczące określonego zawodu
III.3.2)Osoby odpowiedzialne za wykonanie usługi
Sekcja IV: Procedura
IV.1)Rodzaj procedury
IV.1.1)Rodzaj procedury
Otwarta
IV.1.2)Ograniczenie liczby wykonawców, którzy zostaną zaproszeni do składania ofert lub do udziału
IV.1.3)Zmniejszenie liczby wykonawców podczas negocjacji lub dialogu
IV.2)Kryteria udzielenia zamówienia
IV.2.1)Kryteria udzielenia zamówienia
Oferta najkorzystniejsza ekonomicznie z uwzględnieniem kryteriów kryteria określone poniżej
1. Cena. Waga 70
2. Wybrane parametry techniczne podlegające ocenie punktowej. Waga 30
IV.2.2)Informacje na temat aukcji elektronicznej
Wykorzystana będzie aukcja elektroniczna: nie
IV.3)Informacje administracyjne
IV.3.1)Numer referencyjny nadany sprawie przez instytucję zamawiającą:
ZP/027/2011
IV.3.2)Poprzednie publikacje dotyczące tego samego zamówienia
nie
IV.3.3)Warunki otrzymania specyfikacji, dokumentów dodatkowych lub dokumentu opisowego
IV.3.4)Termin składania ofert lub wniosków o dopuszczenie do udziału w postępowaniu
24.11.2011 - 10:45
IV.3.5)Data wysłania zaproszeń do składania ofert lub do udziału zakwalifikowanym kandydatom
IV.3.6)Języki, w których można sporządzać oferty lub wnioski o dopuszczenie do udziału w postępowaniu
polski.
IV.3.7)Minimalny okres, w którym oferent będzie związany ofertą
w dniach: 60 (od ustalonej daty składania ofert)
IV.3.8)Warunki otwarcia ofert
Data: 24.11.2011 - 11:00
Miejscowość:
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych, budynek nr 2, pok. nr 114 (sala konferencyjna), ul. Wólczyńska133, 01-919 Warszawa.
Osoby upoważnione do obecności podczas otwarcia ofert: nieSekcja VI: Informacje uzupełniające
VI.1)Informacje o powtarzającym się charakterze zamówienia
Jest to zamówienie o charakterze powtarzającym się: nie
VI.2)Informacje o funduszach Unii Europejskiej
Zamówienie dotyczy projektu/programu finansowanego ze środków Unii Europejskiej: tak
Podać odniesienie do projektu (projektów) i/lub programu (programów): Centrum Mikro- i Nanotechnologii MINOS nr POIG.02.01.00-14-125/09.
Podać odniesienie do projektu (projektów) i/lub programu (programów): Centrum Mikro- i Nanotechnologii MINOS nr POIG.02.01.00-14-125/09.
VI.3)Informacje dodatkowe
VI.4)Procedury odwoławcze
VI.4.1)Organ odpowiedzialny za procedury odwoławcze
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587706
Faks: +48 224587700
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587706
Faks: +48 224587700
VI.4.2)Składanie odwołań
VI.4.3)Źródło, gdzie można uzyskać informacje na temat składania odwołań
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 224587706
Faks: +48 224587700
VI.5)Data wysłania niniejszego ogłoszenia:
10.10.2011
| TI | Tytuł | PL-Warszawa: Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia |
|---|---|---|
| ND | Nr dokumentu | 344-2012 |
| PD | Data publikacji | 04/01/2012 |
| OJ | Dz.U. S | 1 |
| TW | Miejscowość | WARSZAWA |
| AU | Nazwa instytucji | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych |
| OL | Język oryginału | PL |
| HD | Nagłówek | Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Udzielenie zamówienia - Procedura otwarta |
| CY | Kraj | PL |
| AA | Rodzaj instytucji | 8 - Inne |
| DS | Dokument wysłany | 30/12/2011 |
| NC | Zamówienie | 2 - Zamówienie publiczne na dostawy |
| PR | Procedura | 1 - Procedura otwarta |
| TD | Dokument | 7 - Udzielenie zamówienia |
| RP | Legislacja | 4 - Unia Europejska |
| TY | Rodzaj oferty | 9 - Nie dotyczy |
| AC | Kryteria udzielenia zamówienia | 2 - Oferta najbardziej korzystna ekonomicznie |
| PC | Kod CPV | 30211000 - Komputery wysokowydajne 31700000 - Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne 42900000 - Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia 48321100 - System projektowania wspomaganego komputerowo (CAD) 48323000 - Pakiety oprogramowania do produkcji wspomaganej komputerowo (CAM) |
| OC | Pierwotny kod CPV | 30211000 - Komputery wysokowydajne 31700000 - Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne 42900000 - Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia 48321100 - System projektowania wspomaganego komputerowo (CAD) 48323000 - Pakiety oprogramowania do produkcji wspomaganej komputerowo (CAM) |
| RC | Kod NUTS | PL127 |
| IA | Adres internetowy (URL) | http://www.itme.edu.pl |
| DI | Podstawa prawna | Dyrektywa klasyczna (2004/18/WE) |
04/01/2012 S1 Państwa członkowskie - Zamówienie publiczne na dostawy - Udzielenie zamówienia - Procedura otwarta
PL-Warszawa: Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia
2012/S 1-000344
Ogłoszenie o udzieleniu zamówienia
Dostawy
Sekcja I: Instytucja zamawiająca
I.1)Nazwa, adresy i punkty kontaktowe
Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych
Wólczyńska 133
Osoba do kontaktów: Sławomir Strelau
01-919 Warszawa
POLSKA
Tel.: +48 228353536
E-mail: slawomir.strelau@itme.edu.pl
Faks: +48 228349220
Adresy internetowe:
Ogólny adres instytucji zamawiającej: http://www.itme.edu.pl
I.2)Rodzaj instytucji zamawiającej
Inna: instytut badawczy
I.3)Główny przedmiot lub przedmioty działalności
Inny: nauka
I.4)Udzielenie zamówienia w imieniu innych instytucji zamawiających
Instytucja zamawiająca dokonuje zakupu w imieniu innych instytucji zamawiających: nie
Sekcja II: Przedmiot zamówienia
II.1)Opis
II.1.1)Nazwa nadana zamówieniu
"Dostawa elektronolitografu (systemu do generacji wzorów wiązką elektronów) wraz z wyposażeniem dla Instytutu Technologii Materiałów Elektronicznych w Warszawie".
II.1.2)Rodzaj zamówienia oraz lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług
Dostawy
Kupno
Główne miejsce lub lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług: siedziba Zamawiającego.
Kupno
Główne miejsce lub lokalizacja robót budowlanych, miejsce realizacji dostawy lub świadczenia usług: siedziba Zamawiającego.
Kod NUTS PL127
II.1.3)Informacje na temat umowy ramowej lub dynamicznego systemu zakupów (DSZ)
II.1.4)Krótki opis zamówienia lub zakupu
Przedmiotem niniejszego zamówienia jest dostawa (rozumiana jako sprzedaż, dostarczenie do siedziby.
Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacj iwzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:
1. wytwarzania fotomasek chromowych;
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;
2) stację załadowczą;
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;
4) automatyczny system próżniowy;
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.
Zamawiającego, montaż oraz uruchomienie) elektronolitografu - to jest kompletnego systemu do generacj iwzorów wiązką elektronów (zwanego również systemem do elektronolitografii) wraz z wyposażeniem, przeznaczonego do:
1. wytwarzania fotomasek chromowych;
2. bezpośredniej generacji wzorów na podłożach półprzewodnikowych z wykorzystaniem znacznikówcentrujących;
3. wytwarzania matryc (form) dla technik nanoimprintu;
4. wytwarzania wielopoziomowych fazowych struktur dyfrakcyjnych z wykorzystaniem znaczników centrujących.
System do elektronolitografii obejmuje w szczególności:
1) jednostkę podstawową do generacji wzorów wiązką elektronów wraz z komputerem sterującym,oprogramowaniem i dokumentacją;
2) stację załadowczą;
3) kompletny automatyczny system stabilizacji temperatury jednostki podstawowej i stacji załadowczej;
4) automatyczny system próżniowy;
5) komputerowe stanowisko do przygotowywania i przetwarzania danych graficznych z oprogramowaniem i dokumentacją, w tym oprogramowanie do konwersji danych oraz korekty efektów związanych ze zjawiskiem sąsiedztwa.
Przedmiot zamówienia obejmuje również przeszkolenie wskazanych pracowników Zamawiającego w zakresie obsługi urządzenia.
II.1.5)Wspólny Słownik Zamówień (CPV)
42900000, 31700000, 30211000, 48323000, 48321100
II.1.6)Informacje na temat Porozumienia w sprawie zamówień rządowych (GPA)
Zamówienie jest objęte Porozumieniem w sprawie zamówień rządowych (GPA): nie
II.2)Całkowita końcowa wartość zamówienia (zamówień)
II.2.1)Całkowita końcowa wartość zamówienia (zamówień)
Wartość: 30 000 000,00 PLN
Bez VAT
Bez VAT
Sekcja IV: Procedura
IV.1)Rodzaj procedury
IV.1.1)Rodzaj procedury
Otwarta
IV.2)Kryteria udzielenia zamówienia
IV.2.1)Kryteria udzielenia zamówienia
Oferta najkorzystniejsza ekonomicznie z uwzględnieniem kryteriów
1. Cena. Waga 70
2. Wybrane parametry techniczne podlegające ocenie punktowej. Waga 30
1. Cena. Waga 70
2. Wybrane parametry techniczne podlegające ocenie punktowej. Waga 30
IV.2.2)Informacje na temat aukcji elektronicznej
Wykorzystano aukcję elektroniczną: nie
IV.3)Informacje administracyjne
IV.3.1)Numer referencyjny nadany sprawie przez instytucję zamawiającą
ZP/027/2011
IV.3.2)Poprzednie publikacje dotyczące tego samego zamówienia
Ogłoszenie o zamówieniu
Numer ogłoszenia w Dz.U.: 2011/S 1-140569 z dnia 10.10.2011
Sekcja V: Udzielenie zamówienia
V.1)Data decyzji o udzieleniu zamówienia:
23.12.2011
V.2)Informacje o ofertach
Liczba otrzymanych ofert: 1
Liczba ofert otrzymanych środkami elektronicznymi: 0
Liczba ofert otrzymanych środkami elektronicznymi: 0
V.3)Nazwa i adres wykonawcy, na rzecz którego została wydana decyzja o udzieleniu zamówienia
Vistec Electron Beam GMBH
Göschwitzer Str. 25
07745 Jena
NIEMCY
V.4)Informacje na temat wartości zamówienia
Całkowita końcowa wartość zamówienia:
Wartość: 6 500 000,00 EUR
Bez VAT
Wartość: 6 500 000,00 EUR
Bez VAT
V.5)Informacje na temat podwykonawstwa
Przewidywane jest zlecenie podwykonawstwa w ramach zamówienia: nie
Sekcja VI: Informacje uzupełniające
VI.1)Informacje o funduszach Unii Europejskiej
Zamówienie dotyczy projektu/programu finansowanego ze środków Unii Europejskiej: tak
Podać odniesienie do projektu (projektów) i/lub programu (programów): Centrum Mikro- i Nanotechnologii MINOS nr POIG.02.01.00-14-125/09.
Podać odniesienie do projektu (projektów) i/lub programu (programów): Centrum Mikro- i Nanotechnologii MINOS nr POIG.02.01.00-14-125/09.
VI.2)Informacje dodatkowe:
VI.3)Procedury odwoławcze
VI.3.1)Organ odpowiedzialny za procedury odwoławcze
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
Organ odpowiedzialny za procedury mediacyjne
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
VI.3.2)Składanie odwołań
VI.3.3)Źródło, gdzie można uzyskać informacje na temat składania odwołań
Urząd Zamówień Publicznych
Postępu 17A
02-676 Warszawa
POLSKA
VI.4)Data wysłania niniejszego ogłoszenia:
30.12.2011
Termin składania wniosków lub ofert:
2011-11-24
Dane postępowania
| ID postępowania BZP/TED: | 32235920111 |
|---|---|
| ID postępowania Zamawiającego: | |
| Data publikacji zamówienia: | 2011-10-14 |
| Rodzaj zamówienia: | dostawy |
| Tryb& postępowania [PN]: | Przetarg nieograniczony |
| Czas na realizację: | 16 miesięcy |
| Wadium: | 300000 ZŁ |
| Szacowana wartość* | 10 000 000 PLN - 15 000 000 PLN |
| Oferty uzupełniające: | NIE |
| Oferty częściowe: | NIE |
| Oferty wariantowe: | NIE |
| Przewidywana licyctacja: | NIE |
| Ilość części: | 0 |
| Kryterium ceny: | 100% |
| WWW ogłoszenia: | http://www.itme.edu.pl |
| Informacja dostępna pod: | Instytut Technologii Materiałów Elektronicznych ul. Wólczyńska 133, 01-919 Warszawa, woj. mazowieckie |
| Okres związania ofertą: | 60 dni |
Kody CPV
| 31700000-3 | Urządzenia elektroniczne, elektromechaniczne i elektrotechniczne | |
| 42900000-5 | Różne maszyny ogólnego i specjalnego przeznaczenia |