dostawa wielozadaniowej aparatury ultrawysokopróżniowej przeznaczonej do nanoszenia cienkich warstw i układów wielowarstwowych metodą PVD modyfikacji i kompleksowej analizy powierzchni metodami z rodziny spektroskopii fotoelektronów PES oraz mikroskopii skaningowej SPM w ramach Projektu Centrum Nanotechnologii Politechniki Gdańskiej. - polska-gdańsk: sprzęt laboratoryjny, optyczny i precyzyjny (z wyjątkiem szklanego)

Opis przedmiotu przetargu: 1. przedmiotem zamówienia jest dostawa oraz montaż wielozadaniowej aparatury ultrawysokopróżniowej (uhv – ang. ultra high vacuum) przeznaczonej do nanoszenia cienkich warstw i układów wielowarstwowych metodą pvd (ang. physical vapor deposition), modyfikacji i kompleksowej analizy powierzchni metodami z rodziny spektroskopii fotoelektronów pes (ang. photoemission spectroscopy) oraz mikroskopii skaningowej spm (ang. scanning probe microscopy). 2. szczegółowy opis przedmiotu zamówienia, minimalne parametry techniczne zawiera załącznik nr 7 do siwz. 3. warunki dostawy i montażu wykonawca zobowiązany jest do pisemnego powiadomienia pracownika zamawiającego wskazanego w umowie – załącznik nr 5 do siwz na minimum 14 dni przed planowaną dostawą w przeciwnym wypadku zamawiający będzie uprawniony do odmowy wstępu na miejsce realizacji zamówienia. dostawa zostanie uznana za zrealizowaną w momencie podpisania protokołu odbioru bez zastrzeżeń przez przedstawiciela wykonawcy i zamawiającego. w przypadku stwierdzenia niezgodności dostawy z siwz lub ofertą zamawiający odmówi odbioru. odbiór odbędzie się m. in. na podstawie warunków odbioru określonych w pkt 4. szczegółowe informacje dotyczące warunków odbioru zawarte są we wzorze umowy będącym załącznikiem nr 5 do siwz. plan sytuacyjny – pomieszczenia 0/18 oraz piętra, na którym zlokalizowane jest docelowe miejsce realizacji dostawy i kalibracji przedstawiają załączniki techniczne (1 oraz 2) oraz rysunek zamieszczony w załączniku nr 7 do siwz. 4. warunki podlegające szczególnej ocenie podczas odbioru warunki dla układu ultra wysokiej próżni próżnia mniejsza niż 3—10 10 mbar (tylko przy odbiorze), w czasie normalnego użytkowania gwarantowana próżnia bazowa uzyskiwana w układzie poniżej 1—10 10 mbar) temperatura uzyskiwana podczas grzania oporowego z układem chłodzenia za pomocą ciekłego azotu w przedziale 140 880k temperatura uzyskiwana podczas grzania wiązką elektronów z układem chłodzenia za pomocą ciekłego azotu w przedziale 140 930k warunki dla układu spm tryb stm uzyskanie rozdzielczości atomowej dla si(111) w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni tryb afm, tryb kontaktowy uzyskanie rozdzielczości atomowej dla hopg w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni tryb afm, tryb bezkontaktowy uzyskanie obrazu uskoków atomowych dla si(111) w temperaturze pokojowej w warunkach ultra wysokiej próżni w przypadku ogrzewania próbki uzyskanie obrazu uskoków mono atomowych dla si(111) w temperaturze 450k w trybie stm warunki dla modułu analitycznego spektroskopii fotoelektronów xps sygnał xps dla ag3d5/2 dla mgkα (300w) rozdzielczość fwhm – 0,85 ev natężenie – 2000 kcps moduł wzrostu warstw pvd dostarczenie 2 targetów ito oraz zn i naniesienie struktury wielowarstwowej zadanej przez użytkownika. 5. wykonawca zapewnia gwarancję (min. 12 miesięcy)– szczegółowe informacje zawarte są w załączniku nr 5 do siwz wzorze umowy. ii.1.6)